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全自动CIP在位清洗系统清洗程序、技术要求

发布时间:2017-08-17 关注次数:

全自动CIP在位清洗系统清洗程序 
下面是以饮料行业为例,全自动CIP在位清洗系统清洗程序如下:
1、洗涤3—5分钟,常温或60℃以上的热水;碱洗10—20分钟,1%—2%溶液,60℃—80℃;中间洗涤5—10分钟,60℃以下的清水;最后洗涤3—5分钟,清水。
2、洗涤3—5分钟,常温或60℃以上的热水;碱洗5—10分钟,1%—2%溶液,60℃—80℃,中间洗涤5—10分钟,60℃以下的清水,杀菌10—20分钟,90℃以上的热水。
清洗流量保证流量实际上是为了保证清洗时的清洗液流速,从而产生一定的机械作用,即通过提高流体的湍动性来提高冲击力,取得一定的清洗效果。
全自动CIP在位清洗系统技术要求
1、文件支持:可提供设备结构尺寸图纸(PDF)、使用说明书等。
2、按使用功能要求,分别采用如下标准设计、制造、检验:
A、《药品生产质量管理规范(1998年修订版)》第四章第31-37条款;
B、《钢制压力容器(GB150-1998)》;
C、《钢制焊接常压容器(JB/T4735-1997)》;
D、《食品机械安全卫生(GB16798-1997)》。

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